Ultrazvučno premazivanje raspršivanjem u industriji poluvodiča

Ultrazvučno premazivanje raspršivanjem za industriju poluvodiča precizna je tehnologija taloženja tankog-filma koja koristi-ultrazvučnu energiju visoke frekvencije za raspršivanje poluvodičkih materijala (kao što su fotorezisti i vodljivi materijali) u fine, jednolike kapljice. Te se kapljice zatim precizno raspršuju na površinu podloge pomoću plina nosača, što rezultira visoko{3}}kvalitetnim, ujednačenim tankim{4}}slojnim premazima. Ova tehnologija nudi prednosti poput visoke učinkovitosti, visoke preciznosti, malog gubitka materijala i tankih, jednolikih premaza. Naširoko se koristi u proizvodnji poluvodiča, novoj energiji i staklenim premazima, zamjenjujući tradicionalne metode raspršivanja.

 

Raspršivanje fotootpornog materijala ključna je procesna tehnologija za postizanje ujednačenog premaza fotootpornog materijala u preciznim proizvodnim aplikacijama kao što su poluvodiči i zaslonske ploče. Osobito je prikladan za premazivanje ne-planarnih supstrata (kao što su 3D čipovi i MEMS uređaji) ili velikih supstrata (kao što su OLED ploče), rješavajući ograničenja tradicionalnog premazivanja centrifugom u određenim primjenama.

Bit atomizirajućeg raspršivanja fotootpornog materijala je pretvaranje tekućeg fotootpornog materijala u jedinstvene kapljice mikronske -razmjere (ili čak nanometarske-) fizičke atomizacije. Te se kapljice zatim isporučuju na površinu podloge pomoću precizno kontroliranog protoka zraka i pritiska. Naposljetku, kapljice se šire, stapaju i peku na podlogu kako bi formirale kontinuirani, jednolični fotorezistentni film.

 

Ultrazvučno raspršivanje ključna je tehnologija u područjima precizne proizvodnje kao što je fotorezistentna prevlaka i funkcionalna priprema tankog filma. Njegov temeljni pristup je korištenje visoko{1}}ultrazvučnih vibracija za transformaciju tekućih materijala (kao što su fotorezisti, metalni prekursori i biološki reagensi) u uniformne kapljice na mikrometarskoj ili čak nanometarskoj skali. Te se kapljice zatim preciznim protokom zraka prenose na površinu podloge, stvarajući u konačnici kontinuirani jednolični film. U usporedbi s atomizacijom pod pritiskom i elektrostatskom atomizacijom, ultrazvučna atomizacija nudi prednosti u odnosu na atomizaciju pod pritiskom i elektrostatsku atomizaciju, što rezultira njenom širokom primjenom u primjenama koje zahtijevaju izuzetno visoku stabilnost materijala i preciznost premaza, zbog nedostatka mehaničkog smicanja i veličine kapljica koja se može vrlo kontrolirati.

 

Princip rada

1. Ultrazvučna atomizacija:

Jezgra uređaja je ultrazvučna mlaznica koja sadrži pretvarač koji električnu energiju pretvara u visoko{0}}frekventne mehaničke vibracije.

2. Raspršivanje tekućine:

Dok tekućina (otopina, sol ili suspenzija) teče kroz mlaznicu, vibrirajući raspršivač stvara vibracije. Kada amplituda vibracija premaši površinsku napetost tekućine, tekućina se razbija u kapljice veličine mikrona-.

3. Isporuka plina nosača:

Raspršene kapljice se zatim ravnomjerno transportiraju do površine supstrata unaprijed određenom količinom plina nosača (kao što je zrak).

4. Taloženje tankog filma:

Kapljice se talože na podlogu, tvoreći kontinuirani tanki sloj.

Prednosti u primjeni poluvodiča

Visoka preciznost i ujednačenost:

Sposobnost nanošenja ultra-tankih i ujednačenih tankoslojnih premaza ključna je za primjene u proizvodnji poluvodiča, kao što su fotorezisti, vodljivi filmovi i izolacijski filmovi, koji zahtijevaju iznimno visoku preciznost.

Smanjeni gubitak materijala:

U usporedbi s tradicionalnim raspršivanjem, ultrazvučno raspršivanje ne proizvodi praktički nikakvo odbijanje kapljica ili prekomjerno prskanje, povećavajući iskorištenost materijala nekoliko puta, što ga čini posebno pogodnim za premazivanje skupih materijala.

Lagano prskanje:

Postupak raspršivanja je nježan i ne oštećuje podlogu, što ga čini prikladnim za lomljive poluvodičke materijale i elektroničke komponente.

Raznovrsne mlaznice:

Mogu se odabrati mlaznice različitih širina, duljina, oblika i brzina protoka kako bi se zadovoljile specifične zahtjeve primjene, omogućujući ravnomjerno premazivanje lokaliziranih ili velikih površina.